一、20工位非自耗真空電弧爐 真空熔煉爐設(shè)備用途 ：

用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

二、20工位非自耗真空電弧爐 真空熔煉爐設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：

1、型號(hào)： KDH-1000

2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室

3、真空系統(tǒng)配置：2X-30機(jī)械泵、高真空氣動(dòng)擋板閥.電阻真空計(jì)

4、冷態(tài)極限真空度 ≤10Pa

5、熔煉電流：額定電流≤1000A

6、熔煉坩堝：設(shè)備配有可旋轉(zhuǎn)紐扣式水冷銅坩堝（20-24個(gè)￠60*30半球形工位窩，容重（樣品重量，比重4.8g/cm3）100(克）/熔煉池），帶翻料機(jī)構(gòu)，可以翻料重熔和轉(zhuǎn)移樣品

8、工作氣體：Ar氣；

9、腔體尺寸：?600*400mm（D*H)

9、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧

10、電極桿和機(jī)械手均采用球密封機(jī)構(gòu)，簡(jiǎn)便有效；電極桿電動(dòng)升降，操作便攜

11、采用鐘罩式開(kāi)門，裝卸料方便省去上部打開(kāi)爐蓋裝卸料的不便，門上有操作觀察窗，帶清掃擦拭裝置，方便清理鏡片污染物。

三、設(shè)備組成：

主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、水冷銅坩堝、翻轉(zhuǎn)機(jī)械手、真空吸鑄裝置、工作氣路、系統(tǒng)抽氣、真空測(cè)量及電氣控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等各部分組成。